Oxygen self diffusion in SiO2: An ab-initio approach / Roma, G.; Limoge, Y.; Baroni, S.. - In: DIFFUSION AND DEFECT DATA, SOLID STATE DATA. PART A, DEFECT AND DIFFUSION FORUM. - ISSN 1012-0386. - 194:(2001), pp. 287-294. [10.4028/www.scientific.net/DDF.194-199.287]

Oxygen self diffusion in SiO2: An ab-initio approach

Baroni, S.
2001-01-01

2001
194
287
294
Roma, G.; Limoge, Y.; Baroni, S.
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.11767/11398
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